Veranstaltung: Technische Hochfrequenzplasmen

Nummer:
141366
Lehrform:
Vorlesung und Übungen
Medienform:
rechnerbasierte Präsentation, Tafelanschrieb
Verantwortlicher:
Prof. Dr.-Ing. Peter Awakowicz
Dozenten:
Dr. Julian Schulze (ETIT), Moritz Oberberg (ETIT), M. Sc. Stefan Ries (ETIT), Dipl.-Ing. Sebastian Wilczek (ETIT)
Sprache:
Deutsch
SWS:
4
LP:
4
Angeboten im:
Sommersemester

Termine im Sommersemester

  • Beginn: Dienstag den 10.04.2018
  • Vorlesung Dienstags: ab 10:15 bis 11.45 Uhr im ID 03/401
  • Übung Mittwochs: ab 12:15 bis 13.45 Uhr im ID 03/401

Prüfung

Mündlich

Termin nach Absprache mit dem Dozenten.

Dauer: 30min

Ziele

Die Studierenden beherrschen die theoretischen Grundlagen zur Beschreibung von Transport, Randschicht, Heizungsmechanismen und Gleichgewichtskonzepten in technischen Hochfrequenzplasmen. Sie kennen verschiedene Typen technischer HF Plasmen (Kapazitive und Induktive Radio-Frequenz Plasmen) und verstehen deren Funktionsweisen und industrielle Anwendungen.

Inhalt

  • Einführung
  • Grundlagen
  • Transport
  • Randschichtmodelle
  • Heizungsmechanismen
  • Gleichgewichtskonzepte
  • Kapazitive Radio-Frequenz Plasmen
  • Induktive Radio-Frequenz Plasmen
  • Anwendungen

Voraussetzungen

keine

Empfohlene Vorkenntnisse

Inhalte der Bachelor-Vorlesungen Mathematik 1, 2, 3, Allgemeine Elektrotechnik 1, 2, 3, 4, Elektrophysik, sowie der Master-Vorlesung Plasmtechnik 1

Materialien

Folien:

Übungen:

Sonstige:

Literatur

  1. Braithwaite, Nick, Chabert, Pascal "Physics of Radio-Frequency Plasmas", Cambridge University Press, 2011
  2. Lichtenberg, Allan J., Lieberman, Michael A. "Principles of Plasma Discharges and Materials Processing", Wiley-Interscience, 1994