Plasma Diagnostics
Our research activities in the field of plasma diagnostics deal with the fast and precise determination of the electron density in low-pressure plasmas. The method used, active plasma resonance spectroscopy, is based on the electrical excitation of spatially localized high-frequency plasma oscillations in the range of 1-6 GHz. Various diagnostic concepts are being developed based on the principle of the so-called multipole resonance probe. Time Domain Reflectometry (TDR) and Frequency Modulated Continuous Wave (FMCW) technology are used as measurement methods. The evaluation of the measured resonance spectra is carried out using specialized methods of fast digital signal processing. The concept is contamination-free, robust and allows high-precision measurements that can be evaluated in-situ. For this reason and because of its low investment and maintenance costs, it is particularly interesting for monitoring and controlling technical plasma processes in the industrial production of functional optical layers.
Plasma-Diagnostik
Unsere Forschungsaktivitäten auf dem Gebiet der Plasmadiagnostik befassen sich mit der schnellen und genauen Bestimmung der Elektronendichte in Niederdruckplasmen. Das eingesetzte Verfahren, die aktive Plasmaresonanzspektroskopie, beruht auf der elektrischen Anregung räumlich lokalisierter hochfrequenter Plasmaschwingungen im Bereich von 1-6 GHz. Basierend auf dem Prinzip der sogenannten Multipol-Resonanz-Sonde werden dazu verschiedene Diagnostikkonzepte entwickelt. Als Messverfahren kommen die Time Domain Reflectometry (TDR) und die Frequency Modulated Continuous Wave (FMCW) Technik zum Einsatz. Die Auswertung der damit gemessenen Resonanzspektren erfolgt unter Einsatz spezialisierter Verfahren der schnellen digitalen Signalverarbeitung. Das Konzept ist kontaminationsfrei, robust und erlaubt eine hochpräzise Messungen, die in-situ ausgewertet werden kann. Dadurch und wegen seiner geringen Kosten in Bezug auf Investition und Unterhalt ist es besonders interessant für die Überwachung und Regelung technischer Plasmaprozesse in der industriellen Produktion funktionaler optischer Schichten.
